派瑞林真空镀膜设备

派瑞林镀膜设备采用化学气相沉积(CVD)技术将超薄、保形、保护性的聚对二甲苯聚合物薄膜涂覆到组件上。设备主要包括升华室、裂解室、沉积室、冷阱及真空泵。当制备Parylene分子镀膜时,将二聚体固体原料放入升华室中,升华室中温度升高,二聚体固体原料吸热后升华,由固态变成二聚体气态分子,二聚体气态分子在真空泵的驱动下进入裂解室中;裂解室中温度继续升高,二聚体气态分子吸热后化学键断裂结构改变,由二聚体分子变成单体分子,单体气态分子随后进入沉积室中;沉积室中放置待镀膜器件,温度保持在较低水平,单体气态分子进入沉积室中接触到温度较低的待镀膜器件发生冷凝,由单体气态分子变成固态聚合物,逐渐在待镀膜器件表面累积形成分子镀膜,分子镀膜与待镀膜器件表面通过化学键紧密结合;未在沉积室中冷凝的单体气态分子则在真空泵驱动下进入低温冷阱中被冷凝回收。

Parylene（聚对二甲苯）是一种保护性高分子聚合物材料的通常称呼,根据分子结构的不同,可分为N型、C型、D型、F型、HT型等多种类型。Parylene膜层可在真空环境下通过气相沉积生成,Parylene裂解后的活性分子具有良好穿透能力,能够在表面形状复杂的工件表面及其细小通孔等位置形成真正厚度均匀的无针孔覆型。Parylene材料涂层具有很好的电气性能、热性能、化学稳定性和生物相容性,膜层可抵御酸碱、盐雾、霉菌、紫外及各种腐蚀性气件的侵害,被广泛应用于航空航天、电子工业、生物医疗、海洋环境和文物保护等方面。